关键词: 钛靶,钛合金锻件
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钛靶材

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钛靶材 纯钛圆靶 镀膜靶

发布时间:2020/04/07 点击量:
                                                                                             

钛靶材
1.从用材上分:板靶,管靶,圆靶

2.从用途上分:工具镀,装饰镀

3.真空镀膜分为:溅射镀,离子镀膜,蒸发镀膜

装饰镀:是为了改善工件外观装饰性能和色泽,同时使工件更耐磨耐腐蚀,延长其寿命; 这方面主要用于五金行业各个领域(如门窗五金,锁具,卫浴五金等行业)。

工具镀:主要目的是为了提高工件表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命。

钛阳极,主要用于化工,电镀行业,污水处理。

品 名 纯度 密度 镀膜优势色 形状 常规尺寸 应用行业
钛铝(TiAl)合金靶 2N8-4N 3.6-4.2 玫瑰金/咖啡色 圆柱形 直 径
60/65/95/100*30/32/40/45mm


/

纯铬(Cr)靶 2N7-4N 7.19 白色/黑色 圆柱形
纯钛(Ti)靶) 2N8-4N 4.51 金黄色/枪黑色
蓝色/玫瑰红
圆柱形
纯锆(Zr)靶 2N5-4N 6.5 金色 圆柱形
纯铝(Al))靶 4N-5N 2.7 银色 圆柱形
纯镍(Ni)靶 3N-4N 8.9 金属本色 圆柱形
镍钒(Ni)靶 3N 8.57 蓝绿色 圆柱形
纯铌(Nb)靶 3N 8.57 白色 圆柱形
纯钽(Ta)靶 3N5 16.4 黑色/紫色 圆柱形
纯钼(Mo)靶 3N5 10.2 黑色 圆柱形
2、靶材的主要性能要求
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶
粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

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